Como funcionam os refrigeradores de semicondutores CVD e PVD?
O princípio de funcionamento dos refrigeradores utilizados nos processos de deposição química de vapor (CVD) e de deposição física de vapor (PVD) de semicondutores consiste principalmente em remover o calor gerado durante o processo através da circulação de água de arrefecimento ou de líquidos de arrefecimento especiais, a fim de garantir que a temperatura do equipamento e do ambiente de reação se mantém estável dentro de um intervalo preciso. Embora ambas sejam tecnologias de deposição, as aplicações específicas dos refrigeradores nos dois processos são diferentes e os seus métodos de trabalho podem ser resumidos da seguinte forma:
Como funcionam os refrigeradores na deposição química de vapor (CVD):
Remoção de calor: Durante o processo CVD, as reacções químicas libertam muito calor. O refrigerador absorve eficazmente este calor fazendo circular o líquido de arrefecimento no sistema de arrefecimento através da estrutura de arrefecimento externa ou interna da câmara de reação (como as serpentinas de arrefecimento ou os permutadores de calor), evitando o sobreaquecimento da câmara ou dos reagentes e mantendo as condições de reação estáveis.
Controlo preciso da temperatura: Os refrigeradores estão normalmente integrados em sistemas de controlo de temperatura de precisão, como os controladores PID, que podem ajustar com precisão a temperatura e o fluxo do líquido de refrigeração de acordo com o ponto de regulação para garantir que a temperatura da câmara de reação é controlada dentro do intervalo exigido pelo processo, o que é crucial para controlar a taxa de reação química e a qualidade do produto.
Estabilidade e eficiência: A conceção do chiller centra-se na eficiência energética e na estabilidade para garantir que o desempenho de arrefecimento estável pode ser mantido em funcionamento contínuo a longo prazo, o que é muito importante para a produção contínua do processo CVD.
Como funciona o refrigerador na deposição física de vapor (PVD):
Gestão térmica: Também é gerado muito calor durante o processo de PVD, especialmente durante o revestimento por pulverização catódica ou evaporação. O refrigerador também utiliza um sistema de circulação de líquido de refrigeração para arrefecer o alvo, a parede da câmara de vácuo ou outras peças que necessitem de ser arrefecidas para evitar que a temperatura excessiva afecte a qualidade e a uniformidade da camada depositada.
Uniformidade da temperatura: Em PVD, o refrigerador ajuda a manter a uniformidade da temperatura em toda a área de deposição, o que é crucial para obter revestimentos de película fina de alta qualidade. Através de um controlo preciso da temperatura, os defeitos podem ser reduzidos e a adesão e o desempenho da camada de película podem ser melhorados.
Proteção do equipamento: Para além do controlo direto da temperatura, o refrigerador também desempenha um papel na proteção do equipamento PVD para evitar danos no equipamento ou a degradação do desempenho causada pela temperatura elevada.
Em resumo, quer se trate de CVD ou PVD, o refrigerador mantém a estabilidade da temperatura do equipamento e do processo através da circulação do meio de arrefecimento para garantir um controlo preciso do processo e a qualidade do produto. Para tal, é necessário que o refrigerador tenha capacidades de regulação da temperatura de alta precisão, um desempenho estável e uma boa integração com o equipamento do processo.
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