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FLTZ 5℃~90℃
Os chillers térmicos LNEYA são projetados para aplicações exigentes de controle de temperatura e ajudam o seu negócio com tecnologia profissional.
A série FLTZ 5℃~90℃ oferece chillers térmicos industriais e de processo com controle preciso de temperatura. Esses chillers mantêm temperaturas dentro de ±0.05℃, garantindo desempenho estável para processos industriais sensíveis.
Cada unidade possui uma tela sensível ao toque colorida que exibe informações importantes em tempo real. Você pode monitorar a temperatura nos pontos de controle, as pressões de entrada e saída, as temperaturas da água de condensação e de resfriamento, os parâmetros de líquido e gás, o consumo de energia e os níveis do tanque de água. Isso ajuda a acompanhar o desempenho e responder rapidamente às mudanças.
Os chillers térmicos FLTZ 5℃~90℃ oferecem integração com sistemas e controle remoto. Você pode conectar o chiller ao seu equipamento para monitorar as operações e ajustar as configurações à distância. O design compacto economiza espaço no piso e oferece opções flexíveis de instalação para diferentes ambientes industriais.
| Modelo | FLTZ-002 FLTZ-002W | FLTZ-003 FLTZ-003W | FLTZ-004 FLTZ-004W | FLTZ-006 FLTZ-006W | FLTZ-008 FLTZ-008W | FLTZ-010 FLTZ-010W | FLTZ-015 FLTZ-015W |
| Faixa de temperatura | 5℃～90℃ | ||||||
| Precisão do controle de temperatura | ±0.05℃（Temperatura de saída em estado estacionário） | ||||||
| Capacidade de resfriamento @10℃ | 6kW | 8kW | 10kW | 15kW | 20kW | 25kW | 40kW |
| Volume do fluido de circulação interna | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| Volume do depósito de expansão | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| refrigerante | R410A | ||||||
| Meio de refrigeração | Óleo de silicone, líquido fluorinado, solução aquosa de poliol, DI, etc. (a temperatura do DI precisa ser controlada acima de 10℃) | ||||||
| Tamanho da conexão | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| Tamanho da ligação da água de arrefecimento | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| Fluxo de água de resfriamento @20℃ | 1.5m³/h | 2m³/h | 2.5m³/h | 4m³/h | 4.5m³/h | 5.6m³/h | 9m³/h |
| Dimensão（cm） | 950*380*1055 | 950*380*1055 | 950*380*1055 | 980*430*1400 | 980*430*1400 | 1080*600*1500 | 1080*600*1500 |
| Controlo da temperatura do processo | A temperatura alvo remota pode ser controlada através da combinação do modelo autocriado livre de autocontrolo. algoritmo de árvore construído e algoritmo em cascata | ||||||
Pode atender aos requisitos de processo mais rigorosos na fabricação de semicondutores. Por exemplo, no processo de fotolitografia, qualquer pequena flutuação de temperatura causará deformação térmica do sistema óptico, e a estabilidade da temperatura determina diretamente o sucesso ou fracasso da precisão de exposição.
Substituiu gradualmente substâncias que destroem a camada de ozônio, como o R22, atendendo aos requisitos do período de transição do Protocolo de Montreal.
Um único dispositivo substitui o sistema tradicional de aquecimento/resfriamento dividido, reduzindo a área ocupada pelo equipamento, e pode alcançar mudanças rápidas de temperatura sem trocar o meio, melhorando a eficiência de produção.
Alta repetibilidade dos resultados de controle é o indicador de desempenho central dos chillers de processos de semicondutores. Essa característica determina diretamente o rendimento e a estabilidade do processo na fabricação de chips.
O controle preciso da temperatura é alcançado recuperando o calor residual no ciclo de refrigeração, refletindo o conceito de design avançado de otimização da eficiência energética e integração do sistema.
Adota compressores, ventiladores e bombas de frequência variável para controlar automaticamente o fluxo e a pressão de saída e reduzir o consumo de energia.
O chiller térmico FLTZ 5℃~90℃ é amplamente utilizado em aplicações de semicondutores que exigem controle de temperatura bidirecional devido à sua ampla faixa de temperatura.
Limpeza de wafers
A limpeza de wafers requer o uso de líquidos químicos como SC1 (amônia + peróxido de hidrogênio) e SC2 (ácido clorídrico + peróxido de hidrogênio), e a temperatura da reação deve ser controlada de forma estável entre 25℃ e 80℃. O chiller ajuda a controlar a temperatura do tanque de limpeza para evitar que o estresse térmico cause empenamento do wafer e para prevenir o superaquecimento da unidade de bomba.
Fotolitografia
As máquinas de litografia DUV/EUV são extremamente sensíveis às flutuações de temperatura, portanto, deve-se manter um ambiente de temperatura constante específica após o revestimento com fotorresiste. Os chillers de semicondutores podem fornecer um ambiente de temperatura constante para as máquinas de litografia.
Gravação
• Durante a gravação a seco, a fonte de alimentação RF da cavidade deve ser mantida resfriada dentro de uma faixa de temperatura específica para evitar o superaquecimento e a deriva do processo.
Atendido mais de 30.000 clientes.
Exportado para mais de 20 países.
Obteve a certificação CE, certificação SGS, certificação ISO.
Fornecer treinamento técnico completo.
Com soluções 24/7.
Fundada em 2010, com 15 anos de experiência no setor.
20% dos funcionários são técnicos.
Inspeção visual.
Teste de desempenho.
Teste de segurança elétrica.
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